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| 제목 : 켐트로닉스, 포토레지스트 초고순도 PGMEA 공급 시작…내년 풀가동 예상
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| 2025년 12월 09일 13:23 김우람 기자 |
| 켐트로닉스, 포토레지스트 초고순도 PGMEA 공급 시작…내년 풀가동 예상 |
반도체ㆍ전자 공정 용역(EMS)ㆍ소재 기업 켐트로닉스가 3분기 반도체 포토레지스트와 세정 공정에 사용되는 친환경 프로필렌글리콜 메틸에테르아세트산(PGMEA) 공급을 시작했다.
켐트로닉스는 공급 물량이 계속 늘어나고 있는 가운데 내년 말 안에는 풀 가동될 것으로 예상하고 있다.
9일 켐트로닉스 관계자는 "3분기 PGMEA 등 소재의 고객사 퀄 테스트 통과 이후 공급해 3분기부터 매출에 반영되기 시작했다"며 "공급 물량이 계속 늘어나고 있다"고 말했다.
그러면서 "점차 수주 물량도 늘어나고 있으며, 고객사도 다각도로 넓힐 예정"이라고 말했다.
회사 측은 PGMEA 브랜드 'purisol PMA'의 대규모 생산시설 2만5000톤을 내년 하반기 완전 가동이 될 것으로 기대하고 있다.
켐트로닉스는 2022년 친환경·초고순도 PGMEA 자체 개발에 성공했다. 이후 양산을 위해 약 600억 원 규모의 정제 및 합성 설비를 구축했다.
양산에 성공한 PGMEA는 극자외선(EUV)·불화아르곤(ArF) 노광 공정에 사용되는 세정용 희석제의 주원료로, 불필요한 포토레지스트(PR)를 제거하는 공정에 쓰이는 핵심 용제다.
PGMEA는 EUV 공정에서 회로 패턴을 형성하는 포토레지스트(PR)의 약 70~80%를 차지하는 용제다. EUV PR 원료지만 그동안은 일본산이 대부분이었다.
PGMEA는 EUV·ArF 노광 공정에서 포토레지스트, 하부반사방지막(BARC), 스핀온 경화막(SOH) 등의 주원료로도 활용된다.
켐트로닉스는 이번 제품에서 금속성 불순물을 10PPT 이하로 낮췄다. 순도 5N 이상의 초고순도를 구현해 ‘PR 소프트베이크’ 공정 이후 금속성 잔류물로 인한 노광 과정의 반사·산란 불량을 크게 줄였다. 인체 유해물질로 알려진 베타아이소머 함량도 1PPM 이하로 관리해, 일본·중국산 수입 제품(150~300PPM) 대비 현저히 낮은 수준을 확보했다.
켐트로닉스는 2006년 전자재료연구소 설립 이후 지속적인 R&D 투자(2024~25년 상반기 기준 4%대)를 통한 엔지니어 역량을 강화해 고순도 소재 개발에 집중해왔다. 그 결과 22년 국산화 이래 4년만에 글로벌 반도체업체에 본격 공급에 들어갔다.
특히 5N 초고순도 PGMEA는 기존 팹에 적용될 뿐아니라, 향후 신규로 건설될 국내외 파운더리 팹에도 적용될 것으로 예상돼 향후 수요량 급증이 예상된다, 켐트로닉스는 빠른 증설을 통해 연간 2만5000t인 현재의 생산 역량을 5만t 규모로 확대하는 것을 고려하고 있다.
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