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제목 : [낙스] 반도체생산과정핵심장치DMV기술인수추진
글쓴이 : 바이오진주수집가 작성일 : 2022-12-28 10:40:57 조회수 : 813       추천수 : 31
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반도체생산과정핵심장치DMV기술인수추진
-인수대상기술:반도체세정장비용고효율파우더연속제거용습식세정
장치기술(DynamicMultiVenturi)
-기술소유자:에너스(대표이사박상언)
-기술개발사업명:전략형창업과제
-세부분야명:2020년도창업성장기술개발사업전략형창업과제'-소재.부품.장치
-총개발기간:2020.06.25.~2022.06.24.(24개월)
-기술의개요 반도체제조공정중에발생하는과불화합물(PFCs)를포함한폐가스처리를 위해,삼성,하이닉스등반도체업체는POU(PointofUse)가스스크러버시스템을 도입하여사용중임.폐가스는진공펌프를통해배출되는데,고온에질소
가스와혼합하여외부로배출. 기존POU가스스크러버가처리하지못한일부산성가스와파우더는배기라인 내부부식및파우더막힘현상을유발하여반도체공정LineStop등의
막대한손실발생 이문제해결을위하여삼성전자는10년전부터소형습식전기집진기를 습식가스스크러버와함께사용하였는데청소주기가너무짧아운용상의
문제를안고있음 따라서습식전기집진기의효율을유지하면서유지관리가용이하며50일
이상의청소주기를(기존1주일)유지할수있는습식스크러버기술필요
-기술개발완료여부:개발완료(기준요건의충족)
-시장가치
삼성전자교체수요약10만대(하이닉스,ISMC,인텔등영업대상)
-기술인수조건:협상개시(협상종료예상1개월이내)
-기술인수후영업전략
1)기술의특허등소유권낙스로이전및에너스책임하에기술upgrade지속추진
2)장치의유지보수및대량생산을위한중견업체(상장사포함)동시협상중
(OEM방식)
위험) 토론방에 올라온 매매 전화번호로 절대 연락하지 마세요!!(대포폰or위험)
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